...CuTi, CuZr...
Oxizi: Al2O3, AlON, AZO, AZTO, In2O3, ITO, Nb2O5, HfO2...
Nitruri: AlN, BN, CrN, FeN, InN, HfN, NbN, Si3N4, TaN, TiN, VN, ZrN...
Carburi: Al4C3, B4C, Cr3C2, HfC, Mo2C, NbC, SiC, TaC, WC, VC, TiC, ZrC...
Silizi: MoSi2, HfSi2, TaSi2, ZrSi2, WSi2, TiSi2, CoSi2, CrSi2, VSi2...
Boruri: CeB6, CrB2, HfB2, LaB6, MgB2, MoB, SiB6, SmB6, TiB2, ZrB2...
Compuși: BaTiO3, BiFeO3, BiVO4, FTO, IGZO, KNbO3...
Țintele noastre de sputtering sunt utilizate frecvent în ecrane plate, semiconductori, memorii și celule solare.