Sistem de Tratament al Suprafaței cu Plasma | Femto - Sistem cu Plasma la Presiune Mică, Sistem de Tratament al Suprafaței cu Plasma, Curățător cu Plasma
Plasmaanlagen von Diener electronic haben sich längst in den verschiedensten Industriebereichen durchgesetzt. Mit der Niederdruck Plasmaanlage Femto setzten Sie auf die moderne und zukunftssichere kalte Plasmatechnologie im Vakuum. Das Kammervolumen von 2 bis zu 3 Liter dieses Plasmasystems bietet genügend Raum um Labor und Kleinserienfertigungen zu bedienen.
Die Plasmabehandlung im Niederdruck-Plasma ist eine bewährte Technik zur kontrollierten Feinstreinigung, Verbesserung der Adhäsion (Aktivierung und Ätzung) und Beschichtung dünner Schichten auf Substratoberflächen. Plasma wird durch den Einsatz hochfrequenter Spannung in der Vakuumkammer erzeugt. Dabei wird das dort eingeleitete Prozessgas ionisiert.
Anwendungsgebiete:
VOC-freie Reinigung von organischen Rückständen
Aktivierung vor dem Lackieren, Kleben, Vergießen, …
Ätzen von PTFE, Fotolack, Oxidschichten, …
Super-hydrophobe und -hydrophile Beschichtungen
Abmessungen (Tischgerät):310 - 560 mm x 211 - 860 mm x 420 - 600 mm (BxHxT)
Abmessungen (Standgerät):600 mm x 1700 mm x 800 mm (BxHxT)
Vakuumkammer Material:Edelstahl, Aluminium, Quarzglas (UHP), Borosilikatglas (HP)
Vakuumkammer Abmessungen:Ø 95/100 mm, T 280/278 mm, 103-110 mm x 103-120 mm x 285-300 mm(BxHxT)
Vakuumkammer Volumen:Ca. 2 - 3 Liter
Vakuumkammer Verschluss:Deckel, Tür mit Scharnier
Gaszufuhr:Nadelventile oder Mass Flow Controller (MFCs)
Generator:40 kHz; 100 kHz; 13,56 MHz; 2,45 GHz
Druckmessung:Pirani, Kapazitätsmanometer
Elektroden:nach Kundenwunsch
Steuerung:Halbautomatik, Drehschalter, Basic PC (Win. CE), Full PC (Win. 10 IoT)
Spannungsversorgung:230 V / 400 V / 50 - 60 Hz
Vakuumpumpe:Saugleistung min. 3 m³/h